用于改善腐蝕性質(zhì)的鎂涂層的噴射蒸發(fā)技術(shù)噴射蒸發(fā)技術(shù)是一種PVD工藝，尤其適應于蒸發(fā)低熔點(diǎn)金屬如鋅或鎂等，同時(shí)具有很高的沉積率(達到約10UM/S)。在試驗型生產(chǎn)線(xiàn)上實(shí)現了設備原理如圖8所示。坩堝由高純石墨組成，除了利用一個(gè)在頂蓋上的小噴嘴與分隔的基底室相連外，其余是全部密封的。除了坩堝外，石墨室也能夠被加熱，并提供約95%的蒸汽利用率。碳纖維化合物的大面積加熱器覆蓋著(zhù)坩堝和基底室，并且可以分別單獨控制以確保溫度曲線(xiàn)合乎理想。坩堝容量是按用于4噸卷材計算的?？紤]到該試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的基本研究使用，因此沒(méi)有安裝連續蒸發(fā)材料進(jìn)給裝置。加熱系統是完全由溫度控制和穩定的。從而在加熱以后的整個(gè)工藝時(shí)間內得到恒定的鍍膜條件。由于經(jīng)過(guò)優(yōu)化的噴嘴幾何結構設計，使得整個(gè)的帶截面上的膜厚均勻小于等于(正負)10%。鎂的動(dòng)態(tài)沉積率與坩堝溫度的函數關(guān)系已經(jīng)在幾次實(shí)驗運行中測量得到。(圖

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

現代對鋼板的腐蝕保護的概念表征為一種鋅或者鋅合金和一種或多種不同有機物的鍍膜的綜合。在鋼表面損傷時(shí)，鋅會(huì )陰極保護暴露的鋼鐵表面并且溶解自身。鋅合金的自由電勢越低，鋅合金的陰極保護作用的效率就越高。因此，關(guān)于優(yōu)化這些電化學(xué)性質(zhì)的新型鋅合金膜的開(kāi)發(fā)是很有潛力的。然而，人們越來(lái)越明顯地認識到，完全使用可利用的如熱浸鍍或者電鍍等傳統的連續鋼帶鍍膜工藝來(lái)設計新型的鋅合金鍍膜膜機的可能性是很有限的。從而，不得不考慮使用如氣相沉積尤其是PVD等鍍膜工藝。不管怎樣，這樣的工藝升級到一條走帶速度達到200m/min并且帶寬為1m的連續高速帶材鍍膜加工線(xiàn)上并且以合理的成本運行是可行的也是必要的。